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申请/专利权人:山东师范大学
摘要:本发明属于微纳加工技术领域,涉及一种适用于非真空环境下的紫外光软模纳米压印软模板及其制备方法和应用。本发明利用全氟十二烷基三氯硅烷制备抗粘层,采用二甲基硅氧烷作为纳米压印软模板。将此双层复合软模板加载到自主搭建的纳米压印设备能够在非真空环境下保持较高的压印均匀性,实现低成本、大面积、微纳尺寸可调的周期性纳米结构制造,在微纳光子器件、太阳能电池板、薄膜电池、弯曲显示器等柔性电子器件等领域具有广泛的应用前景。
主权项:1.一种适用于非真空环境下的紫外光软模纳米压印软模板的制备方法,其特征在于,采用以下步骤:(1)对带有微纳结构的母模板进行预处理;(2)在步骤(1)所述预处理的母模板上沉积抗粘层材料;(3)将聚二甲基硅氧烷溶液旋涂在覆盖有步骤(2)所述沉积抗粘层材料的母模板上形成特征层,预烘部分固化,然后将母模板放置在预成型模具中,将聚二甲基硅氧烷浇铸到模具中,充分烘烤,聚二甲基硅氧烷和特征层粘结为一体,从母模板上剥离,制得所述软模板。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 山东师范大学 一种适用于非真空环境下的紫外光软模纳米压印软模板及其制备方法和应用
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