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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：光刻过程是一种将所需图案施加到衬底上通常在衬底的目标部分上的工艺。在光刻过程中，需要控制聚焦。公开了一种用于确定与衬底相关的性能参数的指纹的方法，例如在光刻过程期间要使用的聚焦值。确定参考衬底的性能参数的参考指纹。确定参考衬底的参考衬底参数。确定衬底例如具有产品结构的衬底的衬底参数。随后，基于参考指纹、参考衬底参数和衬底参数确定性能参数的指纹。然后可以使用指纹来控制光刻过程。
主权项：1.一种利用光刻设备图案化多个衬底的方法，所述方法包括：基于衬底上的结构的测量来确定聚焦设定，其中所述衬底已经由光刻设备在与所述结构上的测量对聚焦设定的变化的增强的灵敏度相关的像差设定下曝光所述结构；和基于确定的所述聚焦设定在校正的聚焦设定下利用光刻设备对所述多个衬底进行图案化。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于确定性能参数的指纹的方法和设备
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