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申请/专利权人：协伟集成电路设备(上海)有限公司
摘要：本实用新型公开了一种防微振等级可达VC‑D级的光刻机基础座，包括镭射基础座、主机台基础座和晶片夹持基础座，所述的主机台基础座包括混凝土钢构框架A和设于混凝土钢构框架A内部的钢筋网A，所述的混凝土钢构框架A包括顶板A和多个竖向设置的支撑柱A，多个支撑柱A并列、间隔设置于顶板A的底部，所述的钢筋网A包括水平钢筋网A和数量与支撑柱A数量相一致的竖向钢筋网A，所述的水平钢筋网A水平设于顶板A的下方，所述的竖向钢筋网A竖向设置于对应支撑柱A内，且竖向钢筋网A的顶部与水平钢筋网A的底部焊接固定。本实用新型提供的光刻机基础座，防微振等级可达VC‑D级要求，具有结构简单、相对轻质、制作和使用方便等优点。
主权项：1.一种防微振等级可达VC-D级的光刻机基础座，包括从左到右依次排列的镭射基础座、主机台基础座和晶片夹持基础座，其特征在于：所述的主机台基础座包括混凝土钢构框架A和设于混凝土钢构框架A内部的钢筋网A，所述的混凝土钢构框架A包括顶板A和多个竖向设置的支撑柱A，多个支撑柱A并列、间隔设置于顶板A的底部，所述的钢筋网A包括水平钢筋网A和数量与支撑柱A数量相一致的竖向钢筋网A，所述的水平钢筋网A水平设于顶板A的下方，所述的竖向钢筋网A竖向设置于对应支撑柱A内，且竖向钢筋网A的顶部与水平钢筋网A的底部焊接固定。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 协伟集成电路设备(上海)有限公司 一种防微振等级可达VC-D级的光刻机基础座
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