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申请/专利权人：湖南联合半导体科技有限公司
摘要：本实用新型公开了一种用于CVD的多气源进气装置，其包括：同心设置第一进气管、第二进气管、第三进气管和喷嘴机构，第二进气管的内径大于第一进气管的外径，第三进气管的内径大于第二进气管的外径；喷嘴机构包括同心设置的第一喷气通道、第二喷气通道和第三喷气通道，第一喷气通道与第一进气管连通，第二喷气通道与第二进气管连通，第三喷气通道与第三进气管连通；第一喷气通道的延伸方向垂直于第一进气管的轴向。本实用新型通过多空同心管道的方式实现了多种反应气体的隔离输运，解决了输气管道内及出气口上材料的沉积缩口问题，实现了大尺寸反应腔化学场的精确管控。
主权项：1.一种用于CVD的多气源进气装置，其特征在于，包括：同心设置第一进气管1、第二进气管2、第三进气管3和喷嘴机构4，所述第二进气管2的内径大于所述第一进气管1的外径，所述第三进气管3的内径大于所述第二进气管2的外径；所述第一进气管1内为第一进气通道1.1，所述第一进气管1和第二进气管2之间为第二进气通道2.1，所述第二进气管2和第三进气管3之间为第三进气通道3.1；所述喷嘴机构4设置有若干个，所述喷嘴机构4包括同心设置的第一喷气通道4.1、第二喷气通道4.2和第三喷气通道4.3，所述第一喷气通道4.1与所述第一进气管1连通，所述第二喷气通道4.2与所述第二进气管2连通，所述第三喷气通道4.3与所述第三进气管3连通；所述第一喷气通道4.1的延伸方向垂直于所述第一进气管1的轴向。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖南联合半导体科技有限公司 一种用于CVD的多气源进气装置
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