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申请/专利权人：艾克斯特朗欧洲公司
摘要：本发明涉及用于在CVD反应器中应用的排气机构，所述CVD反应器具有环形的上部件11，所述上部件具有围绕圆形面布置的排气口7，其中，具有平行于圆形面延伸的基面18的上部件11位于形成集气通道8的下部件12上。首先提出，处理室壁17被材料一体式模制在上部件11上，所述处理室壁17在其上端具有肩部19，所述肩部在径向向内方向上相对于平行于圆形面的中心轴线A的方向S至少局部地超过排气口7，并且排气口7的轴线B的向上指向的部段相对于轴线A是倾斜的。还提出，上部件11形成在圆形面的轴线A的方向上敞开的缝隙14的第一缝隙壁15，并且下部件12形成缝隙14的平行于第一缝隙壁15延伸的第二缝隙壁16，以用于接收板10的边缘。
主权项：1.CVD反应器，包括壳体1，用于接收一个或多个衬底3的基座2，所述基座布置在壳体1中，并且能被驱动成在一个旋转平面内围绕旋转轴线A旋转，用于加热基座2的加热装置9，用于将工艺气体馈送到处理室5中的进气机构4，用于排出工艺气体和或工艺气体的分解产物的排气机构6，其中排气机构6具有上部件11，所述上部件带有环形地围绕基座2布置的排气口7，所述排气口7通入到排气机构6的下部件12的集气通道8中，和以其径向外边缘13固定至排气机构6的下部件12处的、布置在基座2和加热装置9之间的板10，其特征在于，径向外边缘13插入缝隙14中，其中第一宽侧10'靠在由上部件11形成的第一缝隙壁15上并且第二宽侧10”靠在由下部件12形成的第二缝隙壁16上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 艾克斯特朗欧洲公司 CVD反应器的排气机构
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