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碳化硅镀铜预置金锡热沉结构及其加工工艺 

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申请/专利权人:深圳宏海技术有限公司

摘要:一种碳化硅镀铜预置金锡热沉结构及其加工工艺,碳化硅镀铜预置金锡热沉结构包括碳化硅基板、第一电镀铜层、第二电镀铜层、预置金锡层,第一电镀铜层设于碳化硅基板的正面,第二电镀铜层设于碳化硅基板的反面,碳化硅基板的厚度比第一电镀铜层、第二电镀铜层的厚度大,碳化硅基板的宽度比第一电镀铜层、第二电镀铜层的宽度大,第一电镀铜层的厚度和第二电镀铜层的厚度相同,第一电镀铜层的宽度比第二电镀铜层的宽度小,预置金锡层设于第二电镀铜层外侧,碳化硅是半导体材料具有耐高温、耐腐蚀、高稳定性、高热导率,碳化硅的导热率与铜的热导率接近,有良好的导热效果,预置金锡层热沉,满足大功率激光器芯片对热沉散热和装配焊接工艺的要求。

主权项:1.一种碳化硅镀铜预置金锡热沉结构,其特征在于,所述碳化硅镀铜预置金锡热沉结构包括碳化硅基板(10)、第一电镀铜层(20)、第二电镀铜层(30)、预置金锡层(50),所述第一电镀铜层(20)设于所述碳化硅基板(10)的反面,所述第二电镀铜层(30)设于所述碳化硅基板(10)的正面,所述碳化硅基板(10)的厚度比所述第一电镀铜层(20)、所述第二电镀铜层(30)的厚度大,所述碳化硅基板(10)的宽度比所述第一电镀铜层(20)、所述第二电镀铜层(30)的宽度大,所述第一电镀铜层(20)的厚度和所述第二电镀铜层(30)的厚度相同,所述第一电镀铜层(20)的宽度比所述第二电镀铜层(30)的宽度小,所述预置金锡层(50)设于所述第二电镀铜层(30)外侧,所述预置金锡层(50)的宽度与所述第二电镀铜层(30)的宽度相同。

全文数据:

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百度查询: 深圳宏海技术有限公司 碳化硅镀铜预置金锡热沉结构及其加工工艺

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