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申请/专利权人:江西兆驰半导体有限公司
摘要:本发明公开了一种高光效倒装LED芯片及其制备方法,制备方法包括以下步骤:提供一衬底,在衬底上形成外延层;在P型半导体层上形成透明导电层,蚀刻形成N型半导体台面和P型半导体台面;在N型半导体台面、P型半导体台面及台面侧壁上形成介质层;对P型半导体台面上的介质层开设周期性导电通孔,暴露透明导电层,在周期性导电通孔内及介质层上形成金属反射层;对N型半导体台面上的介质层开设通孔,暴露N型半导体台面;在金属反射层和介质层上形成透明保护层,对透明保护层开设电极通孔并分别暴露金属反射层和N型半导体台面;在电极通孔内形成P电极和N电极。实施本发明,可以实现倒装LED芯片的光效提升。
主权项:1.一种高光效倒装LED芯片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1提供一衬底,在所述衬底上形成外延层,所述外延层包括依次沉积的N型半导体层、有源层和P型半导体层;2在所述P型半导体层上形成透明导电层,蚀刻部分外延层直至暴露所述N型半导体层,形成N型半导体台面和P型半导体台面;3在所述N型半导体台面、P型半导体台面及台面侧壁上形成介质层;4对所述P型半导体台面上的所述介质层开设周期性导电通孔,暴露透明导电层,在所述周期性导电通孔内及介质层上形成金属反射层;对所述N型半导体台面上的所述介质层开设通孔,暴露所述N型半导体台面;5在所述金属反射层和介质层上形成透明保护层,对透明保护层开设电极通孔并分别暴露金属反射层和N型半导体台面;6在所述电极通孔内形成P电极和N电极。
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