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一种光刻多复用装置及其制作方法 

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申请/专利权人:深圳市汇芯通信技术有限公司

摘要:本发明属于半导体技术领域,公开了一种光刻多复用装置及其制作方法,所述装置包括设置于光刻机载片台与曝光光源之间的水平支架,以及内嵌于水平支架上的圆形镂空区;所述水平支架上设置有滑轨凹槽,且所述滑轨凹槽设置于所述圆形镂空区的外周;所述圆形镂空区的上方设置有具有镂空结构的遮光罩,且所述遮光罩的支撑脚活动安装于所述滑轨凹槽中,所述水平支架的外边框与所述滑轨凹槽之间设置有若干对准线,且所述若干对准线等距离分割所述滑轨凹槽的周长。本发明提供的光刻多复用装置,通过在水平支架的外边框与滑轨凹槽之间设置若干等距离分割滑轨凹槽的周长的对准线,有效的保证了光刻装置在进行多次光刻试验时晶圆上的曝光区域的面积相同。

主权项:1.一种光刻多复用装置,其特征在于,包括:设置于光刻机载片台与曝光光源之间的水平支架,以及内嵌于所述水平支架上的圆形镂空区;所述水平支架上设置有滑轨凹槽,且所述滑轨凹槽设置于所述圆形镂空区的外周;所述圆形镂空区的上方设置有具有镂空结构的遮光罩,且所述遮光罩的支撑脚活动安装于所述滑轨凹槽中;所述水平支架的外边框与所述滑轨凹槽之间设置有若干对准线,且所述若干对准线等距离分割所述滑轨凹槽的周长。

全文数据:

权利要求:

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