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涂覆组合物和形成电子装置的方法 

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申请/专利权人:罗门哈斯电子材料有限责任公司

摘要:一种涂覆组合物和形成电子装置的方法。涂覆组合物包含:一种或多种化合物的B阶段反应产物,所述化合物包含选自C6‑50碳环芳香族、C2‑50杂环芳香族、C1‑20脂肪族、C1‑20杂脂肪族、C3‑20脂环族和C2‑20杂脂环族的核;附接到核的两个或更多个式1取代基,其中Ar1是独立选自C6‑50碳环芳香族和C2‑50杂芳香族的芳香族基团;Z独立选自OR1、受保护羟基、羧基、受保护羧基、SR1、受保护巯基、‑O‑C=O‑C1‑6烷基、卤素和NHR2;每个R1独立选自H、C1‑10烷基、C2‑10不饱和烃基和C5‑30芳基;每个R2独立选自H、C1‑10烷基、C2‑10不饱和烃基、C5‑30芳基、C=O‑R1和S=O2‑R1;x是1至Ar1中可用芳香族环原子总数的整数;*指示与核的附接点;以及一种或多种溶剂。所述方法包括提供电子装置基底,涂覆所述涂覆组合物,固化。

主权项:1.一种涂覆组合物,其包含:一种或多种化合物的B阶段反应产物,所述B阶段反应产物是指所述一种或多种化合物的部分固化反应产物,所述部分固化反应产物是指呈低聚物形式并且能进一步聚合或固化以形成更高分子量材料的反应产物,所述化合物由以下构成:选自以下的核:C6-50碳环芳香族、C2-50杂环芳香族、C1-20脂肪族、C1-20杂脂肪族、C3-20脂环族、和C2-20杂脂环族,其中的每一个可以是取代的或未取代的;和附接到所述核的两个或更多个具有式1的取代基: 其中:Ar1是独立地选自以下的芳香族基团:C6-50碳环芳香族和C2-50杂芳香族,其中的每一个可以是取代的或未取代的;Z是独立地选自以下的取代基:OR1、受保护的羟基、羧基、受保护的羧基、SR1、受保护的巯基、-O-C=O-C1-6烷基、卤素、和NHR2;其中每个R1独立地选自H、C1-10烷基、C2-10不饱和烃基、和C5-30芳基;每个R2独立地选自H、C1-10烷基、C2-10不饱和烃基、C5-30芳基、C=O-R1、和S=O2-R1;x是1至Ar1中可用芳香族环原子总数的整数;并且*指示与所述核的附接点;前提是当所述核包含芳香族环时,在所述核的同一芳香族环上具有式1的取代基彼此不处于邻位;以及一种或多种溶剂,其中总溶剂含量是基于所述涂覆组合物的50wt%至99wt%。

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权利要求:

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