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申请/专利权人：巴斯夫欧洲公司
摘要：本文要求保护的发明涉及电介质抛光组合物及其方法。本文要求保护的发明特别地涉及一种组合物，该组合物包含：A表面改性的胶体二氧化硅颗粒，其在该颗粒的表面上包含带负电荷的基团，其中该表面改性的胶体二氧化硅颗粒具有负电荷，60nm至200nm的粒度，以及在≥2.0至≤4.5范围内的pH下‑35mV的ζ电位；B选自至少一种胍衍生物的第一腐蚀抑制剂；C选自聚丙烯酰胺或聚丙烯酰胺共聚物的第二腐蚀抑制剂；D至少一种铁III氧化剂；E至少一种选自磷酸及其盐的氧化硅去除速率增强剂；F至少一种稳定剂；以及G水性介质，其中该组合物的pH在≥2.0至≤4.5的范围内。
主权项：1.一种电介质抛光组合物，该组合物包含A表面改性的胶体二氧化硅颗粒，其在该颗粒的表面上包含带负电荷的基团，其中该表面改性的胶体二氧化硅颗粒具有负电荷，60nm至200nm的粒度，以及在≥2.0至≤4.5范围内的pH下-35mV的ζ电位；B选自至少一种胍衍生物的第一腐蚀抑制剂；C选自聚丙烯酰胺或聚丙烯酰胺共聚物的第二腐蚀抑制剂；D至少一种铁III氧化剂；E至少一种选自磷酸及其盐的氧化硅去除速率增强剂；F至少一种稳定剂；以及G水性介质，其中该组合物的pH在≥2.0至≤4.5的范围内。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 巴斯夫欧洲公司 用于抑制钨蚀刻的组合物和方法
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