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申请/专利权人：兴芯社(重庆)电子设备有限公司
摘要：本实用新型提供一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，属于蚀刻液回收技术领域。包括蚀刻机主体、滤网、导流台以及回流管，蚀刻机主体的下方内部水平安装滤网，滤网设置在回流管的下方；滤网的两侧上方分别设有推动板、阻隔板，推动板与阻隔板彼此间隔对称分布，推动板沿滤网的上表面朝向阻隔板滑行，推动板的底部内嵌有伸缩板，伸缩板与推动板弹性连接。回流管与蚀刻机主体台面上的的蚀刻液出液口连接。该便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，无需对滤网进行拆装即可进行清洁作业，而蚀刻液清理后继续流动从排放腔中排出，整体作业流畅度高，对于蚀刻液的清洁效果好。
主权项：1.一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，包括蚀刻机主体、滤网、导流台以及回流管，所述蚀刻机主体的下方内部水平安装滤网，所述滤网设置在回流管的下方；所述滤网的两侧上方分别设有推动板、阻隔板，所述推动板与阻隔板彼此间隔对称分布，所述推动板沿滤网的上表面朝向阻隔板滑行，所述推动板的底部内嵌有伸缩板，所述伸缩板与推动板弹性连接。
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权利要求：
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