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摘要：本申请提供了一种物镜气体泄露检测方法、物镜及光刻机，属于成像设备技术领域。气体泄露检测方法包括：获取处于第一灵敏度区间内的光学间隔腔的内部氧气浓度值，基于获取的氧气浓度值控制进气口是否进气以及进气口在进气时的进气参数；进气口的进气参数包括进气口的进气量和或进气压力和或进气时长。本申请中通过获取物镜中处于灵敏度区间最强位置的光学间隔腔内部氧气浓度值，可以根据氧气浓度值确定出物镜内部的工艺气体纯度，从而自适应的向物镜内部充入工艺气体，从而保证了物镜内部的工艺气体纯度，继而保证了物镜的成像效果和使用寿命。
主权项：1.一种物镜气体泄露检测方法，其特征在于，所述物镜的内部限定出多个光学间隔腔，多个光学间隔腔相互连通构成用于容纳气体的气体容纳腔，所述气体容纳腔具有进气口，所述进气口用于向所述气体容纳腔中注入工艺气体，其中多个光学间隔腔基于灵敏度从强到弱的分布规律包括处于第一灵敏度区间的第一灵敏等级光学间隔腔、处于第二灵敏度区间的第二灵敏等级光学间隔腔...以及处于第M灵敏度区间的第M灵敏等级光学间隔腔；所述气体泄露检测方法包括：获取处于第一灵敏度区间内的光学间隔腔的内部氧气浓度值，基于获取的所述氧气浓度值控制所述进气口是否进气以及进气口在进气时的进气参数；其中所述进气口的进气参数包括进气口的进气量和或进气压力和或进气时长。
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百度查询： 上海芯东来半导体科技有限公司 一种物镜气体泄露检测方法、物镜及光刻机
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