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申请/专利权人：森科五金(深圳)有限公司
摘要：本发明公开了一种基于Al材的PVD镀膜方法，属于PVD镀膜领域。包括步骤：S1：基底Al材进行清洗；S2：对镀膜室进行加热及抽真空；S3：通入氩气，使气压达到预定值，设置偏压，进行阳极清洗；S4：设置偏压，开启中频镀膜电源，同时开启Al、Ti靶材，沉积AlTi层；S5：通入C2H2气体，并同时保持Al、Ti靶开启，沉积AlTiC层；S6：关闭C2H2气体，关闭中频Al靶电源，保持Ti靶开启，沉积纯Ti层；S7：打开C2H2气体，同时开启Al、Si、Ti靶，沉积TiAlSiC层，结束镀膜。与现有技术相比，本申请通过对打底层、过渡层、面层的元素的选择，实现各层之间的硬度过渡和电位过渡，既能够保证膜层具有优异的耐腐蚀性能；又能够合理的实现硬度梯度过度，有效提升膜层表面的抗加载性能。
主权项：1.一种基于Al材的PVD镀膜方法，其特征在于，包括步骤：S1：将基底Al材进行清洗；S2：将清洗后的基底Al材放入镀膜室中，对镀膜室进行加热及抽真空；S3：当镀膜室的本地真空度达到0.001Pa时，通入氩气，使气压达到预定值，设置偏压，进行阳极清洗；S4：调整氩气进气量，使气压达到预定值，设置偏压，开启中频镀膜电源，同时开启Al、Ti靶材，沉积AlTi层；S5：通入C2H2气体，调整气压，并同时保持Al、Ti靶开启，沉积AlTiC层；S6：关闭C2H2气体，关闭中频Al靶电源，调整气压到预定值，保持Ti靶开启，沉积纯Ti层；S7：打开C2H2气体，调整气压到预定值，同时开启Al、Si、Ti靶，多次沉积TiAlSiC层，结束镀膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 森科五金(深圳)有限公司 一种基于Al材的PVD镀膜方法
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