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申请/专利权人:常州捷佳创精密机械有限公司
摘要:本实用新型属于硅片清洗技术领域,具体涉及一种硅片清洗槽,本装置包括:清洗槽,所述清洗槽的底部一体设置有药液槽,所述药液槽的外壁与所述清洗槽的内壁之间为清洗外槽,所述清洗外槽的槽底倾斜设置,以及,所述清洗外槽的最低点设置有外槽排水口;简言之,通过清洗槽的设置,能够完成花篮的放置,对硅片进行清洗;进一步的,通过药液槽的设置,能够对清洗槽进行分区,将药液槽的内部集成干净的药液;进一步的,通过外槽排水口的设置,能够对清洗外槽进行有效排水。
主权项:1.一种硅片清洗槽(100),其特征在于,包括:清洗槽(100),所述清洗槽(100)的底部一体设置有药液槽(101),所述药液槽(101)的外壁与所述清洗槽(100)的内壁之间为清洗外槽(102),所述清洗外槽(102)的槽底倾斜设置,以及所述清洗外槽(102)的最低点设置有外槽排水口(103);所述清洗外槽(102)之间设置有多个加强板(104),所述加强板(104)固定设置在所述清洗槽(100)的内壁和所述药液槽(101)的外壁之间;所述药液槽(101)、所述清洗槽(100)以及多个所述加强板(104)一体成型。
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