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光催化用UiO-66(Zr/Hf)基吸附材料、制备方法及应用 

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摘要:本发明涉及一种用于光催化降解水中有机污染物的UiO‑66(ZrHf)基吸附材料及该材料的制备方法及应用。其制备方法包括以下步骤:S1、将有机配体和氯化锆加入DMF溶剂中,加入乙酸,水热反应得到UiO‑66基材料;S2、将氯化铪分散于无水二氯乙烷中,后加入THF和正己烷,0℃和N2保护下反应得到黄色沉淀HfCl4THF2,过滤洗涤并干燥;S3、将UiO‑66基材料、HfCl4THF2和DMF混合,120℃下反应5~20h,将固体产物洗涤并真空干燥后得到UiO‑66(ZrHf)基材料。本发明能够用于光催化降解水中有机污染物,并能够有效提高光催化降解材料的吸附能力和催化活性。

主权项:1.一种光催化用UiO-66基吸附材料的制备方法,其特征是:包括以下步骤,S1、将有机配体和氯化锆加入DMF溶剂中,加入乙酸,水热反应后,将固体产物干燥后得到UiO-66基材料;S2、将氯化铪分散于无水二氯乙烷中,后加入THF和经Na干燥的正己烷,0℃和N2保护下反应得到黄色沉淀HfCl4THF2,后过滤洗涤并干燥;S3、将UiO-66基材料、HfCl4THF2和DMF混合,120℃下反应5~20h,将固体产物洗涤并真空干燥后得到Hf4+部分替换UiO-66中的Zr4+的UiO-66(ZrHf)基材料。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 镇江市高等专科学校 光催化用UiO-66(Zr/Hf)基吸附材料、制备方法及应用

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