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申请/专利权人：浙江求是半导体设备有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司
摘要：本申请涉及半导体抛光技术领域，尤其是涉及一种抛光设备，包括：设备主体，设备主体用于硅片抛光，设备主体具有加工室；过滤机构，过滤机构用于对去除设备主体内部的颗粒物，过滤机构包括：净化室，净化室连接于加工室上，净化室和加工室至少部分连通；第一过滤组件，第一过滤组件连接于净化室和加工室之间，第一过滤组件可沿第一方向送风并过滤，第一方向是指加工室到净化室的方向；以及第二过滤组件，第二过滤组件连接于净化室和加工室之间，第二过滤组件可沿第二方向送风并过滤，第二方向是指净化室到加工室的方向；使得在加工室和净化室之间形成循环气流。
主权项：1.一种抛光设备，其特征在于，包括：设备主体，所述设备主体用于硅片抛光，所述设备主体具有加工室；过滤机构，所述过滤机构用于对去除所述设备主体内部的颗粒物，所述过滤机构包括：净化室，所述净化室连接于所述加工室上，所述净化室和所述加工室至少部分连通；第一过滤组件，所述第一过滤组件连接于所述净化室和加工室之间，所述第一过滤组件可沿第一方向送风并过滤，所述第一方向是指加工室到净化室的方向；以及第二过滤组件，所述第二过滤组件连接于所述净化室和加工室之间，所述第二过滤组件可沿第二方向送风并过滤，所述第二方向是指净化室到加工室的方向；使得在所述加工室和净化室之间形成循环气流。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江求是半导体设备有限公司 浙江晶盛机电股份有限公司 一种抛光设备
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