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申请/专利权人:德国艾托特克公司
摘要:本发明涉及一种用于将铬或铬合金层沉积于至少一个基板上的方法,所述方法包括以下步骤:a提供pH在4.1到6.9的范围内的水性沉积浴,所述浴包含:‑三价铬离子,‑甲酸根离子,和‑任选硫酸根离子,b提供至少一个基板和至少一个阳极,c将所述至少一个基板浸渍于所述水性沉积浴中并施加电流使得所述铬或铬合金层沉积于所述基板上,所述基板为阴极,其中,若在步骤c期间或之后,所述三价铬离子具有低于三价铬离子的目标浓度的浓度,则d将经溶解的甲酸三价铬添加到所述水性沉积浴使得三价铬离子以比步骤d之前更高的浓度存在,但前提条件为‑将固体甲酸三价铬溶解于取自所述水性沉积浴的经分离的部分体积中以获得用于步骤d的所述经溶解的甲酸三价铬。
主权项:1.一种用于将铬或铬合金层沉积于至少一个衬底上的方法,所述方法包括以下步骤:a提供pH在4.1到6.9的范围内的水性沉积浴,所述浴包含:-三价铬离子,-甲酸根离子,-硫酸根离子,和铵离子,b提供所述至少一个衬底和至少一个阳极,c将所述至少一个衬底浸渍于所述水性沉积浴中并施加电流使得所述铬或铬合金层沉积于所述衬底上,所述衬底为阴极,其中,在步骤c期间或之后,当所述三价铬离子具有已经低于三价铬离子的目标浓度的浓度时,d将经溶解的甲酸三价铬添加到所述水性沉积浴使得三价铬离子以比步骤d之前更高的浓度存在,但前提条件为-将固体甲酸三价铬溶解于取自所述水性沉积浴的经分离的部分体积中以获得用于步骤d的所述更高的浓度的三价铬离子,其中在步骤a中,基于所述沉积浴的总体积,所述硫酸根离子具有在35gL到90gL的范围内的浓度,其中在步骤a中,基于所述沉积浴的总体积,所述水性沉积浴包含30gL到150gL的浓度的铵离子。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 德国艾托特克公司 铬或铬合金层的沉积方法和电镀装置
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