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硅锗/硅叠层中硅的高性能选择性蚀刻液 

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摘要:本发明提供一种硅锗硅叠层中硅的高性能选择性蚀刻液,该蚀刻液包括氢氧化季铵、链烷醇胺、SiGe抑制剂和水。本发明提供的高性能、高选择比的蚀刻组合物,能够在高效维持蚀刻硅的同时,对硅锗有防蚀效果,硅硅锗选择比>20;当呋喃环类化合物与多胺类化合物按一定比例联用时,硅硅锗选择比高达345。

主权项:1.一种硅锗硅叠层中硅的高性能选择性蚀刻液,其特征在于,包含氢氧化季铵、链烷醇胺、SiGe抑制剂和水。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 湖北兴福电子材料股份有限公司 硅锗/硅叠层中硅的高性能选择性蚀刻液

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