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摘要：本发明提供了一种改善离子注入机离子污染的方法。本发明采用SC1+超声波震荡，通过仅对所述晶圆表面进行清洗去除晶圆表面离子污染源，即可使得对应的方块电阻回到基准线，可以有效改善离子注入机离子污染且对线上产品影响较小，避免方块电阻监控设备控片被离子污染困扰，提高离子注入机线下监控的精准性和稳定性，有效提高机台产能。
主权项：1.一种改善离子注入机离子污染的方法，其特征在于，包括：提供离子注入机，所述离子注入机包括工艺腔和设置于所述工艺腔中的离子注入装置，所述离子注入装置能够产生离子束流以对容置于所述工艺腔内的晶圆进行离子注入；利用所述离子注入机对晶圆进行连续离子注入，连续离子注入后产生离子污染；采用预设清洗方案仅对所述晶圆表面进行清洗，以去除晶圆表面离子污染源；以及利用所述离子注入机对所述晶圆进行再次离子注入。
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百度查询： 上海积塔半导体有限公司 改善离子注入机离子污染的方法
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