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摘要：本发明公开了一种硅基空心微针阵列的制造方法，包括在硅基板上创建具有离散高度步骤的三维光刻胶结构，然后通过深反应离子刻蚀将该结构转移到硅中；使用双面抛光硅片作为基材，旋涂一层光刻胶，通过逐层曝光进行灰度光刻，形成具有多个高度步骤的三维光刻胶结构，在灰度光刻之后，通过热回流方式，加热使光刻胶流动，形成更光滑的光刻胶结构，再使用优化的Bosch工艺将光刻胶图案转移到硅中，形成阶梯状的硅结构，接着采用各向同性的SF6气体刻蚀工艺来平滑微针的斜面和顶面，减少粗糙度，最后通过调整硅对光刻胶的刻蚀时间和工艺参数，以控制微针的高度和锥角，最终制造出表面光滑的空心硅微针。
主权项：1.一种硅基空心微针阵列的制造方法，其特征在于：包括以下步骤：a，将硅片100晶面取向用丙酮和异丙醇清洗，然后用氧等离子体处理以去除潜在的有机污染物；b，在硅片背面涂抹光刻胶，并在热板上烘烤；c，冷却后，使用直写机曝光孔图案,曝光后，在热板上进行曝光后烘烤，然后在显影液中显影；d，使用Bosch工艺将光刻胶图案，进行蚀刻；e，去除剩余光刻胶；f,在硅片正面涂抹光刻胶,通过逐层曝光进行灰度光刻；g，光刻后，形成3D阶梯结构的光刻胶图案,通过光刻胶的热回流转化为光滑的斜面剖面；h，以光刻胶图案为掩模，使用调整后的Bosch工艺以降低刻蚀选择性来刻蚀硅微针，刻蚀后，使用SF6气体的各向同性刻蚀工艺进一步平滑微针的侧面和顶面，最终形成硅基空心微针。
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百度查询： 杭州泰新微纳科技有限公司 一种硅基空心微针阵列的制造方法
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