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摘要：本申请公开了一种掩模版黑缺陷的修复方法、装置、设备及存储介质，涉及掩模版制造技术领域，公开了掩模版黑缺陷的修复方法，包括：获取对掩模版上的黑缺陷进行检测的缺陷数据，以及对黑缺陷修复时吸附产生的遮光粒子所需的静电参数；基于缺陷数据控制预设激光器气化产生黑缺陷的遮光粒子；基于静电参数控制预设静电吸附器吸附气化的遮光粒子。也即，获取缺陷数据与对黑缺陷修复时吸附产生的遮光粒子所需的静电参数，然后，根据预先设置的静电参数，控制预设静电吸附器吸附气化的遮光粒子，使其在凝华后保持被预设静电吸附器吸附的状态，从而避免气化的遮光粒子凝华后再次落到掩模板上留下修补痕迹，进一步提高了对掩模版上黑缺陷的修补效率。
主权项：1.一种掩模版黑缺陷的修复方法，其特征在于，所述的方法包括：获取对掩模版上的黑缺陷进行检测的缺陷数据，以及对所述黑缺陷修复时吸附产生的遮光粒子所需的静电参数；基于所述缺陷数据控制预设激光器气化产生所述黑缺陷的遮光粒子；基于所述静电参数控制预设静电吸附器吸附气化的所述遮光粒子。
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百度查询： 珠海市龙图光罩科技有限公司 掩模版黑缺陷的修复方法、装置、设备及存储介质
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