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摘要：本发明公开了一种用于清洁设备的清洁基站和清洁系统，清洁基站包括：基站底座和除菌模块，基站底座具有第一进风口、第一出风口以及基站风道，基站风道连通第一进风口与第一出风口；除菌模块安装于基站底座且位于基站风道的流动路径上，除菌模块用于产生等离子体；其中，清洁设备具有第二进风口、第二出风口以及设备风道，设备风道连通第二进风口与第二出风口，在清洁设备与清洁基站配合时，第一出风口与第二进风口连通以形成除菌风道，相对于第一进风口，除菌模块更靠近第一出风口。根据本发明实施例的清洁基站，第一出风口处的等离子体的浓度较高，使得从第二进风口处进入设备风道内的等离子体的浓度较高，对设备风道的除菌抑臭的效果更好。
主权项：1.一种用于清洁设备的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站包括：基站底座，具有第一进风口、第一出风口以及基站风道，所述基站风道连通所述第一进风口与所述第一出风口；除菌模块，安装于所述基站底座且位于所述基站风道的流动路径上，所述除菌模块用于产生等离子体；其中，所述清洁设备具有第二进风口、第二出风口以及设备风道，所述设备风道连通所述第二进风口与所述第二出风口，在所述清洁设备与所述清洁基站配合时，所述第一出风口与所述第二进风口连通以形成除菌风道，相对于所述第一进风口，所述除菌模块更靠近所述第一出风口。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏美的清洁电器股份有限公司 美的集团股份有限公司 用于清洁设备的清洁基站和清洁系统
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