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摘要:本发明提供了一种光刻胶涂布设备及涂布方法,涉及涂胶工艺技术领域。包括第一涂布组件和第二涂布组件,所述第一涂布组件适于将光刻胶以厚涂的形式涂布在基板上进行初步涂胶,所述第二涂布组件设置于所述第一涂布组件的下游端,以将所述第一涂布组件涂布后的光刻胶层剪薄至预设的涂布厚度,并修复第一涂布组件涂布时的漏涂部位以避免漏涂光刻胶现象。通过本方案可以提高涂胶均匀性以及提高生产效率。
主权项:1.一种光刻胶涂布设备,其特征在于,包括第一涂布组件和第二涂布组件,所述第一涂布组件适于将光刻胶以厚涂的形式涂布在基板上进行初步涂胶,所述第二涂布组件设置于所述第一涂布组件的下游端,以将所述第一涂布组件涂布后的光刻胶层剪薄至所需的涂布厚度,并修复第一涂布组件涂布时的漏涂部位。
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