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摘要：本发明公开了一种电致变色膜层结构及其制备方法与应用。所述电致变色膜层结构包括叠层设置的氧化钨层及非晶氧化锌锡缓冲层；其中，所述氧化钨层具有纳米柱状结构。本发明制备的电致变色膜层结构能明显抑制电化学循环过程中氧化钨着色态透过率的衰减、提升光学调制幅度以及着色效率；同时本发明制备的电致变色膜层结构具有较好的电致变色循环稳定性，满足电致变色器件稳定运行的基本要求。
主权项：1.一种电致变色膜层结构，其特征在于，包括叠层设置的氧化钨层及非晶氧化锌锡缓冲层；其中，所述氧化钨层具有纳米柱状结构，所述柱状结构的直径为20~60nm；所述氧化钨层由复数个沿竖直方向设置的纳米柱状结构依次紧密排列形成；所述氧化钨层中的OW为2.7~2.9；所述非晶氧化锌锡缓冲层的厚度为18nm；所述电致变色膜层结构的制备方法包括：提供设置有透明导电层的衬底；其中，所述衬底的材质选自PET、PVC、PC中的任意一种；采用磁控溅射技术，以氧化钨靶为靶材，在所述透明导电层的表面沉积形成氧化钨层；其中所述磁控溅射技术采用的衬底温度为25~150℃；以及，采用磁控溅射技术，以氧化锌锡靶为靶材，在所述氧化钨层的表面沉积形成非晶氧化锌锡缓冲层，从而获得电致变色膜层结构；其中所述磁控溅射技术采用的衬底温度为25~150℃。
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百度查询： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种电致变色膜层结构及其制备方法与应用
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