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法兰装置及半导体制造系统 

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摘要:本发明揭露一种法兰装置,连接于处理腔体及传递腔体之间。所述装置包含一本体,所述本体具有一第一环形内壁及所述第一环形内壁定义的一晶圆传输通道。所述第一环形内壁由一顶面、一对侧面及一底面所界定,其中所述第一环形内壁的顶面提供有多个扩散孔,用于朝所述晶圆通道供应净化气体。此外,本发明还揭露了一种半导体制造系统。

主权项:1.一种法兰装置,用于连接在处理腔体及传递腔体之间,所述装置包含:一本体,具有一第一环形内壁及所述第一环形内壁定义的一晶圆通道,所述第一环形内壁具有一顶面、一对侧面及一底面,其特征在于:所述本体由一气窗和一外框所组成,所述气窗具有一环形外壁、一环形沟槽及一长条狭缝,所述环形沟槽形成于所述气窗的环形外壁且沿着所述气窗的环形外壁延伸,所述长条狭缝形成于所述第一环形内壁的顶面,使所述长条狭缝与所述环形沟槽相通,所述外框提供有一可转动的扩散管,所述扩散管形成有多个扩散孔,当所述扩散管位于所述气窗和所述外框之间时,所述扩散管的多个扩散孔经由所述长条狭缝暴露于所述晶圆通道;其中,所述本体提供有一进气口,用于接收净化气体;其中,所述扩散管、所述外框的环形内壁与所述气窗的所述环形沟槽界定出一环形扩散通道,所述净化气体得以经由所述进气口、所述环形扩散通道及所述多个扩散孔进入所述晶圆通道;其中,所述气窗具有一对肩部,所述长条狭缝界定于该对肩部之间;所述扩散管的两端分别形成有一缺口,所述肩部接触所述扩散管的表面形成阻挡,使所述净化气体被迫从所述缺口进入所述扩散管内。

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