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摘要：此处提供用于处理基板的方法及装置。在一些实施方式中，用于控制处理腔室中气体流动的遮板包含：封闭壁体，该封闭壁体具有上端及下端，该封闭壁体在该下端处界定该遮板的第一开口且在该上端处界定该遮板的第二开口，其中该第二开口从该第一开口偏移；及顶部壁，该顶部壁设置于该封闭壁体的该上端的一部分顶上，位于该第一开口上方的一位置，以与该封闭壁体的该上端的其余部分一起界定该第二开口，其中该遮板经构造以经由该第一开口使来自该第二开口的气体流动转向。
主权项：1.一种用于控制处理腔室中气体流动的遮板，包括：封闭壁体，所述封闭壁体具有上端及下端，所述封闭壁体在所述下端处界定所述遮板的第一开口且在所述上端处界定所述遮板的第二开口，其中所述第二开口从所述第一开口偏移，所述遮板设置于基板支撑件及泵送口之间，且所述遮板经构造以引导气体流动经由所述第二开口及所述第一开口穿过所述遮板而朝向所述泵送口，其中所述封闭壁体包括：第一主体，所述第一主体具有环状形状且界定所述遮板的所述第一开口；第二主体，所述第二主体设置于所述第一主体的顶部上且覆盖所述第一开口，其中所述第二主体具有顶部壁，所述顶部壁设置于所述第一开口的上方位置处；及第三主体，所述第三主体耦接至所述第一主体或所述第二主体中的至少一个，其中所述第三主体及所述第二主体界定所述遮板的所述第二开口。
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权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于增强处理腔室中流动均匀性的装置
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