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摘要：本申请涉及用于治疗设备的反馈检测。一种系统包括被配置为将电磁辐射EMR束会聚至沿着光轴而定位的焦点区域的聚焦光学器件。该系统还包括被配置为检测从沿着光轴的预定位置发出的信号辐射的检测器。该系统附加地包括被配置为部分地基于由检测器检测到的信号辐射来调整EMR束的参数的控制器。该系统还包括沿着光轴在焦点区域与聚焦光学器件之间定位于远离焦点区域的预定深度的窗口，其中窗口被配置为与组织的表面进行接触。
主权项：1.一种用于检测治疗设备的反馈的系统，包括：聚焦光学器件，被配置为将电磁辐射束聚焦至沿着光轴定位的焦点区域；窗口，与所述光轴相交，被配置为接触组织的表面；光学检测器，被布置在沿所述光轴的方向上，并且被配置为检测所述电磁辐射束被所述窗口的表面反射所产生的信号辐射的强度；控制器，被配置为基于检测到的信号辐射来确定沿着所述光轴的参考位置，其中在所述参考位置处，所述焦点区域的一部分与所述窗口的表面基本重合；和载物台，被配置为将所述焦点区域平移至治疗位置，所述治疗位置位于距所述参考位置的预定距离。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 阿瓦瓦公司 用于治疗设备的反馈检测
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