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摘要:本实用新型公开了一种用于沉积工艺的送气装置和沉积工艺设备。送气装置包括:第一管路,第一端连接载气源,第二端连接到工艺腔上方的边缘位置,用于向所述工艺腔内的边缘区域提供载气;以及第二管路,第一端连接前驱体和载气的混合气源,第二端导向外部,并且,所述第二管路与位于所述工艺腔上方的所述第一管路交叉连接,其中,交叉区域内包括切换部件,以使所述第二管路在所述工艺腔上方与所述第一管路进行管路内气流切换。通过上述送气装置,能够缩短沉积工艺过程中前驱体气体的传输路径,从而减少沉积成膜的前期稳定时间,有利于稳定沉积工艺的制程。
主权项:1.一种用于沉积工艺的送气装置,其特征在于,包括:第一管路,第一端连接载气源,第二端连接到工艺腔上方的边缘位置,用于向所述工艺腔内的边缘区域提供载气;以及第二管路,第一端连接前驱体和载气的混合气源,第二端导向外部,并且,所述第二管路与位于所述工艺腔上方的所述第一管路交叉连接,其中,交叉区域内包括切换部件,以使所述第二管路在所述工艺腔上方与所述第一管路进行管路内气流切换。
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百度查询: 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 一种用于沉积工艺的送气装置和沉积工艺设备
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