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摘要：本实用新型提供了一种检测离子源头是否泄漏的装置，离子源头包括一个台阶面，装置包括真空测漏仪、第一连接管和检测腔体；检测腔体具有一腔室，腔室的一端贯穿检测腔体的上端面，另一端位于检测腔体的内部；第一连接管的一端与真空测漏仪连通，另一端与腔室连通；台阶面与检测腔体的上端面相贴合；离子源头的一端位于腔室外，另一端位于腔室内。通过真空测漏仪和检测腔体对组成完成后的离子源头进行泄漏检测，当离子源头不泄漏时，再把离子源头安装到离子注入机中；当离子源头泄漏时，重新组装离子源头后再进行泄漏检测，直至离子源头不泄漏时，才将离子源头安装到离子注入机中，这样可以缩短设备维护的时间，延长干泵的使用寿命。
主权项：1.一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，包括真空测漏仪、第一连接管和检测腔体；所述检测腔体的上端面向内凹陷形成一腔室；所述第一连接管的一端与所述真空测漏仪连通，另一端与所述腔室连通。
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百度查询： 合肥晶合集成电路股份有限公司 一种检测离子源头是否泄漏的装置
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