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一种不透光低介质低Tg聚酰亚胺薄膜及其制备方法 

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摘要:本发明公开了一种不透光低介质低Tg聚酰亚胺薄膜及其制备方法,涉及特殊薄膜材料制备技术领域,薄膜包括改性黑色聚酰亚胺层作为热塑性层,其中改性黑色聚酰亚胺层中包括以下组分:可溶聚酰亚胺液、耐高温环氧改性硅树脂、离子捕捉剂、抗氧化剂、固化剂、石墨烯、氢氧化铝、含氟树脂、酸酐类高分子材料、二苯酐二胺、哑光粉、稀释剂,还包括二氧化硅或氧化锆。本发明提供的聚酰亚胺摸制备方法中,首先通过配方的创新控制材料的透光率、介电常数和TG;在此基础上,通过制备工艺中对材料的处理方式的优化,进一步对上述参数进行调整,得到了不透光低介质低Tg聚酰亚胺薄膜。

主权项:1.一种不透光低介质低Tg聚酰亚胺薄膜,其特征在于:包括改性黑色聚酰亚胺层作为热塑性层,其中改性黑色聚酰亚胺层中包括以下组分:可溶聚酰亚胺液、耐高温环氧改性硅树脂、离子捕捉剂、抗氧化剂、固化剂、石墨烯、氢氧化铝、含氟树脂、酸酐类高分子材料、二苯酐二胺、哑光粉、稀释剂,还包括二氧化硅或氧化锆。

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