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摘要：本发明公开了一种高硬度镀膜方法，涉及镀膜技术领域。一种高硬度镀膜方法，包括如下步骤：准备‑刻蚀‑沉积Cr膜‑沉积第一CrSiCN膜‑沉积CrSiN膜‑沉积第二CrSiCN膜‑镀完膜后冷却降温，取出工件。本申请具有提高镀膜涂层的莫氏硬度，提高涂层的边缘直身位的附着力的效果。
主权项：1.一种高硬度镀膜方法，其特征在于：包括如下步骤：1.准备：在磁控溅射镀膜设备中安装Cr靶和CrSi混合靶，将工件进行超声清洗，烘干后固定在磁控溅射镀膜设备的镀膜室的转架上，将镀膜室抽真空并预热工件，开启转架旋转；2.刻蚀：向镀膜室内通入氩气，氩气流量为30-40sccm，采用离子束对工件进行刻蚀，刻蚀时间为4-5min；3.沉积Cr膜：向镀膜室内继续通入氩气，氩气流量增大为170-190sccm，设置Cr靶电流为18-20A，开始沉积，沉积时间5-7min；4.沉积第一CrSiCN膜：保持氩气通入，同时向镀膜室内通入氮气和乙炔，将镀膜室内加热至180-210℃，保温30-40min后关闭加热，开始保温镀膜，设置CrSi靶电流为15-16A，沉积时间30-32min；5.沉积CrSiN膜:保持氩气通入，关闭乙炔，增大氮气流量，设置CrSi靶电流为18-20A，开始沉积，沉积时间10-12min；6.沉积第二CrSiCN膜：保持氩气通入，通入乙炔，减少氮气流量，将镀膜室内加热至180-210℃，保温30-40min后关闭加热，开始保温镀膜，设置CrSi靶电流为12-13A，沉积时间35-38min；7.镀完膜后冷却降温，取出工件。
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百度查询： 东莞市光纳光电科技有限公司 一种高硬度镀膜方法
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