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摘要：本发明涉及一种等离子体增强原子层沉积设备，包括等离子发生装置以及粉体处理装置，等离子发生装置设有等离子发生腔，粉体处理装置与所述等离子发生装置连接，所述粉体处理装置内形成有反应腔以及分别与所述反应腔连通的进气孔、等离子进入孔、排气孔，所述等离子进入孔与所述等离子发生腔连通，其中，所述进气孔用于通入第一工艺气体，所述等离子进入孔用于通入等离子体。本发明的等离子体增强原子层沉积设备的进气孔和等离子进入孔均是独立连通至反应腔，使第一工艺气体在通入至反应腔时无需经过等离子发生腔，以避免第一工艺气体被电离，能够选择同时向反应腔通入第一工艺气体和等离子体的工艺，以满足粉体处理工艺的多样需求。
主权项：1.一种等离子体增强原子层沉积设备，其特征在于，包括：等离子发生装置，设有等离子发生腔；以及，粉体处理装置，与所述等离子发生装置连接，所述粉体处理装置内形成有反应腔以及分别与所述反应腔连通的进气孔、等离子进入孔、排气孔，所述等离子进入孔与所述等离子发生腔连通；其中，所述进气孔用于通入第一工艺气体，所述等离子进入孔用于通入等离子体。
权利要求：
百度查询： 深圳若隅科技有限公司 等离子体增强原子层沉积设备
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