恭喜浙江晶盛机电股份有限公司;浙江求是半导体设备有限公司傅林坚获国家专利权
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龙图腾网恭喜浙江晶盛机电股份有限公司;浙江求是半导体设备有限公司申请的专利坩埚内底面缺陷检测方法、装置以及电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119444764B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510045979.2,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权坩埚内底面缺陷检测方法、装置以及电子设备是由傅林坚;刘华;汪崇智;陈双设计研发完成,并于2025-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本坩埚内底面缺陷检测方法、装置以及电子设备在说明书摘要公布了:本申请涉及坩埚内底面缺陷检测方法、装置以及电子设备,该方法利用相机在坩埚多次绕坩埚内底面圆心沿设定方向旋转设定角度时连续采集多帧图像,将这些多帧图像输入到预训练的缺陷检测模型中,缺陷检测模型能够识别并标记出图像中的缺陷,生成带有缺陷标识的多帧标识图像。针对多帧标识图像中的每相邻两帧标识图像,通过定义基准图像和目标图像,并对其中的缺陷进行比较,依据四个条件:方向、圆心距离、面积和圆心角来判断缺陷是否重复,并最终排除重复缺陷以准确计数,从而提高检测速度或者效率,提升检测准确性和一致性,减少重复计数,增强缺陷分析能力,降低成本,提升产品质量,并具备良好的灵活性和适应性。
本发明授权坩埚内底面缺陷检测方法、装置以及电子设备在权利要求书中公布了:1.一种坩埚内底面缺陷检测方法,其特征在于,所述方法包括:获取坩埚内底面的多帧图像;其中,所述多帧图像为相机在所述坩埚多次绕坩埚内底面圆心沿设定方向旋转设定角度时进行连续采集得到的;将所述多帧图像输入预训练的缺陷检测模型进行缺陷识别,生成带有缺陷标识的多帧标识图像;针对所述多帧标识图像中的每相邻两帧标识图像,将其中一帧标识图像定义为基准图像,将另一帧标识图像定义为目标图像,将基准图像中任一带有缺陷标识的缺陷定义为第一缺陷,针对第一缺陷,确定所述目标图像中是否存在一个第二缺陷,所述第二缺陷和所述第一缺陷之间满足第一条件、第二条件、第三条件以及第四条件;其中,所述第一条件为:所述第一缺陷位于所述第二缺陷的设定方向或者与所述设定方向相反的方向,所述第二条件为:所述第一缺陷和所述第二缺陷距所述坩埚内底面的圆心距离基本相等,所述第三条件为:所述第一缺陷与所述第二缺陷的面积和或长宽尺寸基本相等,所述第四条件为:所述第一缺陷坐标、所述第二缺陷坐标以及所述坩埚内底面的圆心所形成的圆心角与所述设定角度基本相等,若所述圆心角与所述设定角度的差值小于角度阈值,所述第一缺陷和所述第二缺陷之间满足第四条件;若所述目标图像中存在一个第二缺陷,所述第二缺陷与所述第一缺陷之间满足第一条件、第二条件、第三条件以及第四条件,将所述基准图像中的第一缺陷标记为无效缺陷,所述无效缺陷不参与所述基准图像中缺陷数量的计数;其中,获取第一缺陷识别框中心点坐标和第二缺陷识别框中心点坐标;基于两个中心点坐标,分别确定所述第一缺陷识别框中心点距所述内底面圆心的距离以及所述第二缺陷识别框中心点距所述内底面圆心的距离;若两个距离的差值小于距离阈值,则所述第一缺陷和所述第二缺陷之间满足第二条件;获取所述第一缺陷的长度和宽度以及所述第二缺陷的长度和宽度;若两个缺陷的长度之差以及宽度之差均小于设定阈值,则所述第一缺陷和所述第二缺陷之间满足第三条件。
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