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申请/专利权人：株式会社V技术
申请日：2014-12-04
公开（公告）日：2019-01-01
公开（公告）号：CN109112476A
专利技术分类：.局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物[2006.01]
专利摘要：本发明提供成膜掩膜的制造方法，向树脂制的膜片20照射激光L而形成俯视下呈多边形的开口图案4，通过将使用光束整形用掩膜10进行整形的激光L向上述膜片20照射，来形成具有以开口从上述膜片20的与上述激光L的照射面相反的一侧朝向上述照射面侧扩大的方式倾斜的至少一对对置侧壁4a的开口图案4，其中光束整形用掩膜10具有供上述激光透过的透光窗18，且在该透光窗18的外侧使该透光窗18的至少一对边的侧方区域的透光率，随着从上述透光窗的边缘部朝向侧方逐渐减小。
专利权项：1.一种成膜掩膜，用于经由开口图案在基板上成膜，其特征在于，上述开口图案具有开口朝向成膜源侧扩大的多对对置侧壁，所述多对对置侧壁的倾斜角度至少在上述成膜源侧不同，上述成膜掩膜相对于一边沿一个方向被搬运一边成膜的上述基板以如下所述的配置状态被使用：上述开口图案的相对于与上述成膜源相反的一侧的掩膜面的倾斜角度小的对置侧壁，处于与上述基板的搬运方向交叉的方向的状态。
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