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申请/专利权人:昭和电工株式会社
申请日:2002-11-15
公开(公告)日:2006-12-13
公开(公告)号:CN1289626C
专利技术分类:.防滑材料;研磨材料(含高分子物质的磨料或摩擦体或者成型磨料的制造入C08J5/14)[2006.01]
专利摘要:一种以氧化铈为主要成分的铈基抛光料,其基本粒径为40nm至80nm,比表面积为2m2g至5m2g,当以10%质量的量分散于水中时,该抛光料的沉淀物堆积比重为0.8gml至1.0gml。这样得到的抛光料能够提供具有以下特点的铈基抛光料和铈基抛光浆料,即能够提高抛光速度并在抛光表面上引起的缺陷很少,且能获得高质量的抛光表面。
专利权项:1.一种以氧化铈为主要成分的铈基抛光料,其特征在于当以10质量%的量分散于水中时,该抛光料的沉淀物堆积比重为0.8gml至1.0gml,抛光料的比表面积为2m2g至5m2g。
百度查询: 昭和电工株式会社 铈基抛光料和铈基抛光浆料
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