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供体基底专利

发布时间:2019-03-12 11:03:02 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 供体基底

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申请/专利权人:三星显示有限公司

申请日:2014-05-05

公开(公告)日:2014-12-03

公开(公告)号:CN104183782A

专利技术分类:

专利摘要:提供了一种供体基底,该供体基底包括:基础基底;光反射层,位于基础基底上并且与基础基底部分地叠置;光热转换层,位于基础基底上并且包括组合层,所述组合层包括绝缘材料和第一金属材料;转印层,位于光热转换层上。随着与基础基底的距离沿光热转换层的厚度方向的增大,组合层中的第一金属材料与组合层中的绝缘材料的含量比增大。

专利权项:一种供体基底,所述供体基底包括:基础基底;光反射层,位于基础基底上并且与基础基底部分地叠置;光热转换层,位于基础基底上并且包括组合层,所述组合层包括绝缘材料和第一金属材料;以及转印层,位于光热转换层上,其中,随着与基础基底的距离沿光热转换层的厚度方向的增大,组合层中的第一金属材料与组合层中的绝缘材料的含量比增大。

百度查询: 三星显示有限公司 供体基底

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