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申请/专利权人：株式会社LG化学
申请日：2022-12-07
公开（公告）日：2024-08-02
公开（公告）号：CN118435113A
专利技术分类：....结构上与一光导层或铁电层相结合的液晶单元，可以从光学方面或电学方面改变其性能的[2006.01]
专利摘要：本申请提供了包括间隔物图案的基底。本申请可以提供这样的基底：其应用于各种光学装置，能够均匀且稳定地保持基底之间的间隙，同时最大程度地确保有源区，而不会引起包括衍射现象等的任何光学缺陷。本申请还可以提供包括所述基底的光学装置。
专利权项：1.一种基底，包括基础层；和形成在所述基础层上并且彼此交叉而形成复数个闭合图形的复数个线间隔物，以及满足下式1：[式1]A≠180×n-2其中，A为由形成所述闭合图形的交叉点中的三个相邻交叉点形成的所述闭合图形的内角，以及n为形成所述闭合图形的交叉点的数量。
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