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低发射率玻璃专利

发布时间:2020-02-12 20:04:49 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 低发射率玻璃

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申请/专利权人:KCC公司

申请日:2018-06-19

公开(公告)日:2020-01-21

公开(公告)号:CN110719898A

专利技术分类:..至少一种涂层是金属[2006.01]

专利摘要:本发明涉及低发射率玻璃,其包括:玻璃衬底;形成在所述玻璃衬底上的第一电介质层;形成在所述第一电介质层上的金属层;形成在所述金属层上的吸收层;形成在所述吸收层上的第二电介质层;以及形成在所述第二电介质层上并且含有Zr的涂层,由此提供了具有良好并且优异的处理和长期储存性质的低发射率玻璃。

专利权项:1.低发射率玻璃,包括:玻璃衬底;形成在所述玻璃衬底上的第一电介质层;形成在所述第一电介质层上的金属层;形成在所述金属层上的吸收层;形成在所述吸收层上的第二电介质层;以及形成在所述第二电介质层上的包含Zr的涂层。

百度查询: KCC公司 低发射率玻璃

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