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申请/专利权人：中国科学院理化技术研究所
申请日：2023-07-24
公开（公告）日：2025-01-24
公开（公告）号：CN119354924A
专利技术分类：..镜面反射率[2014.01]
专利摘要：本发明提供一种材料表面发射率测量装置，包括真空罩、发射率测量组件和制冷设备。发射率测量组件设置在真空罩的内部，发射率测量组件用于测量黑体和样品的发射率，真空罩用于为发射率的测量提供真空环境。制冷设备通过柔性连接件悬挂在真空罩的底部，制冷设备用于为发射率测量组件提供冷量。真空罩和制冷设备为发射率的测量提供真空低温环境，可以有效的降低背景噪声。与相关技术中制冷设备与发射率测量组件刚性连接传递冷量的方式相比，本发明中的制冷设备通过柔性连接件悬挂在真空罩的底部，可以有效阻断制冷设备的振动传递至发射率测量组件，使测量过程中，发射率测量组件更加稳定，有效提高测量的准确率。
专利权项：1.一种材料表面发射率测量装置，其特征在于，包括：真空罩100；发射率测量组件，所述发射率测量组件设置在所述真空罩100内，用于测量黑体210和样品220的发射率；制冷设备，所述制冷设备通过柔性连接件悬挂在所述真空罩100的底部，且所述制冷设备用于为所述发射率测量组件提供冷量。
百度查询： 中国科学院理化技术研究所 材料表面发射率测量装置
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