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申请/专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司
摘要：本发明公开了一种控制硅片TDH的设备和方法，所述控制硅片TDH的设备包括干燥箱和打包装置，所述干燥箱包括壳体、第一输送装置、干燥装置和第一湿度检测装置，所述壳体的两端设置有进料口和出料口，所述第一输送装置穿过所述壳体，所述第一输送装置的两端分别位于所述进料口和出料口处，所述第一输送装置上能够放置多个片盒，所述干燥装置沿着所述第一输送装置的输送方向设置，所述第一湿度检测装置能够检测所述出料口处的片盒的湿度，所述打包装置的进口连接所述出料口，所述打包装置能够打包所述出料口输出的所述片盒。本发明提供的控制硅片TDH的设备和方法能够有效减少硅片出现TDH现象。
主权项：1.一种控制硅片TDH的设备，其特征在于,包括干燥箱和打包装置3，所述干燥箱包括壳体1、第一输送装置2、干燥装置和第一湿度检测装置，所述壳体1的两端设置有进料口和出料口，所述第一输送装置2穿过所述壳体1，所述第一输送装置2的两端分别位于所述进料口和出料口处，所述第一输送装置2上能够放置多个片盒4，所述干燥装置沿着所述第一输送装置2的输送方向设置，所述第一湿度检测装置能够检测所述出料口处的片盒4的湿度，所述打包装置3的进口连接所述出料口，所述打包装置3能够打包所述出料口输出的所述片盒4。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西安奕斯伟硅片技术有限公司 西安奕斯伟材料技术有限公司 控制硅片TDH的设备和方法
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