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申请/专利权人：有研光电新材料有限责任公司
申请日：2021-02-20
公开（公告）日：2022-01-11
公开（公告）号：CN215480535U
专利技术分类：
专利摘要：本实用新型涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种石英坩埚腐蚀桶及腐蚀结构，包括：桶体，顶部具有开口，用于盛放腐蚀液；桶盖，盖设在开口上；支撑凸起，设置在桶体的底面，用于支撑石英坩埚。通过在桶体内设置支撑凸起，一方面可以支撑悬空倒扣的石英坩埚，使得石英坩埚充分腐蚀，另一方面支撑凸起可以占用桶体的部分空间，达到节省腐蚀液、降低成本的目的。
专利权项：1.一种石英坩埚腐蚀桶，其特征在于，包括：桶体，顶部具有开口，用于盛放腐蚀液；桶盖，盖设在所述开口上；支撑凸起，设置在所述桶体的底面，用于支撑倒扣的石英坩埚。
百度查询： 有研光电新材料有限责任公司 石英坩埚腐蚀桶及腐蚀结构
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