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申请/专利权人：西实显示高新材料(沈阳)有限公司
申请日：2022-09-29
公开（公告）日：2022-12-20
公开（公告）号：CN115491662A
专利技术分类：..借助放电的[2006.01]
专利摘要：本发明涉及一种ICP设备。ICP设备包括具有工件位与电感位的腔体以及排气筏板，排气筏板活动设置于腔体内，排气筏板内部设置供气通道，供气通道具有多个出气口；排气筏板可相对腔体平移，以改变排气筏板的各出气口与工件位、电感位之间的距离；排气筏板可沿其长度方向转动，以改变排气筏板的各出气口与工件位、电感位之间的角度。排气筏板在相对腔体平移或转动后，可以调整工艺气体与工件位或电感位之间的距离及角度，从而调整工件位处或电感位处的工艺气体分布，以及对应的工艺气体流速、流量等因素，进而调整工件位处或电感位处的等离子体的分布以及能量，以改变薄膜沉积与表面刻蚀的占比，提高膜层质量。
专利权项：1.一种ICP设备，其特征在于，包括：腔体，具有工件位与电感位；及排气筏板，活动设置于腔体内，所述排气筏板内部设置供气通道，所述供气通道具有多个出气口；所述排气筏板可相对腔体平移，以改变所述排气筏板的各所述出气口与所述工件位、所述电感位之间的距离；所述排气筏板可沿其长度方向转动，以改变所述排气筏板的各所述出气口与所述工件位、所述电感位之间的角度。
百度查询： 西实显示高新材料(沈阳)有限公司 ICP设备
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