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申请/专利权人：西安中科微精光子科技股份有限公司
摘要：本发明属于激光加工领域，涉及一种反射式DOE衍射元件及激光加工设备，该激光加工设备包括激光器、扩束镜、聚焦镜以及如前所记载的反射式DOE衍射元件；扩束镜、反射式DOE衍射元件以及聚焦镜自前而后依次设置在激光器的出射光路上。本发明提供了一种制作方便以及无需额外固定及调节部件的反射式DOE衍射元件及激光加工设备。
主权项：1.一种反射式DOE衍射元件的制备方法，其特征在于：所述反射式DOE衍射元件的制备方法包括以下步骤：1制备具有光学微结构的掩模板；2在单晶硅基板上生长厚度为a的多晶硅层；3利用步骤1制备得到的掩模板对步骤2制备得到的多晶硅层进行光刻和显影；4在多晶硅层上进行蚀刻到深度b；5在图形上镀反射层；所述反射层是金属钛、金属钽、金属锆、金属铪、金属钪、金属铌、钛氧化物、钽氧化物、锆氧化物、铪氧化物、钪氧化物以及铌氧化物中的一种或其组合；所述反射层是一层或多层；6在图形上生长透明保护薄膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西安中科微精光子科技股份有限公司 反射式DOE衍射元件及激光加工设备
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