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一种微透镜结构MicroLED及其制备方法 

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申请/专利权人:盐城鸿石智能科技有限公司

摘要:本发明涉及显示芯片技术领域,公开了一种微透镜结构MicroLED及其制备方法,微透镜结构MicroLED包括驱动基板,驱动基板上设有若干呈矩形阵列设置的发光单元,发光单元包括键合金属层,键合金属层底部与驱动基板相连,键合金属层上方设有外延层,外延层包括依次设置的P型半导体层、多量子阱层和N型半导体层,P型半导体层底部与键合金属层连接,N型半导体层中间蚀刻成透镜结构,N型半导体层外圈植入离子形成阻隔层,反光单元外壁沉积有钝化层,钝化层对应N型半导体层中间开设有出光口,钝化层外壁沉积有ITO层,ITO层外壁沉积N电极层,N型半导体层通过ITO层与N电极层电连接,本发明通过离子注入和N型半导体层微结构化的方式,减少刻蚀带来的侧壁损伤,同时提高光的准直、聚光性。

主权项:1.一种微透镜结构MicroLED,其特征在于,包括驱动基板,所述驱动基板上设有若干呈矩形阵列设置的发光单元,所述发光单元包括键合金属层,所述键合金属层底部与驱动基板相连,所述键合金属层上方设有外延层,所述外延层包括依次设置的P型半导体层、多量子阱层和N型半导体层,所述P型半导体层底部与键合金属层连接,所述N型半导体层中间蚀刻成透镜结构,所述N型半导体层外圈植入离子形成阻隔层,所述反光单元外壁沉积有钝化层,所述钝化层对应N型半导体层中间开设有出光口,所述钝化层外壁沉积有ITO层,所述ITO层外壁沉积N电极层,所述N型半导体层通过ITO层与N电极层电连接。

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权利要求:

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