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X射线荧光系统 

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申请/专利权人:联邦科学与工业研究组织

摘要:一种X射线荧光系统,包括:X射线源,X射线源用于发射入射到样品上的X射线辐射;及控制器,控制器用于使X射线辐射的能量在第一入射辐射能量与第二入射辐射能量之间变化。系统还包括X射线荧光检测器,X射线荧光检测器用于检测由样品响应于入射X射线辐射而以荧光形式发出的X射线辐射,并且确定:由样品响应于以第一入射能量入射到样品上的X射线辐射而以荧光形式发出的X射线辐射的第一荧光辐射强度,以及由样品响应于以第二入射能量入射到样品上的X射线辐射而以荧光形式发出的X射线荧光辐射的第二荧光辐射强度。基于第一荧光辐射强度和第二荧光辐射强度来确定粒度校正因子。还公开了一种X射线荧光的方法。

主权项:1.一种X射线荧光系统,其包括:X射线源,所述X射线源适于发射入射到样品上的X射线辐射;控制器,所述控制器与所述X射线源相关联,所述控制器适于使入射到所述样品上的所述X射线辐射的能量在至少第一入射辐射能量与第二入射辐射能量之间变化,所述第二入射辐射能量高于所述第一入射辐射能量;以及X射线荧光检测器,所述X射线荧光检测器用于检测由所述样品响应于入射到所述样品上的所述X射线辐射而以荧光形式发出的X射线辐射,并且至少确定:由所述样品响应于以所述第一入射能量入射到所述样品上的所述X射线辐射而以荧光形式发出的X射线辐射的第一荧光辐射强度;以及由所述样品响应于以所述第二入射能量入射到所述样品上的所述X射线辐射而以荧光形式发出的X射线荧光辐射的第二荧光辐射强度;并且基于所述第一荧光辐射强度和所述第二荧光辐射强度来确定粒度校正因子。

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权利要求:

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