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申请/专利权人：中微半导体设备(上海)股份有限公司
摘要：本发明适用于半导体刻蚀领域，公开了用于真空设备的调平机构和等离子体处理装置，用于真空设备的调平机构包括至少一个间隙调节件和设置于间隙调节件外周的密封波纹管，间隙调节件包括双层螺栓和套设于双层螺栓外周的真空波纹管，双层螺栓的两端分别连接第一部件和第二部件。通过设置多个间隙调节件，具体通过真空波纹管与双层螺栓的组合设计，使得能够通过调控对应的双层螺栓至少部分地调节第一部件和第二部件之间的距离，进而实现在真空设备中通过设置多个间隙调节件调节对应的双层螺栓来改变两部件之间的部分距离，另外，在间隙调节件的外周设置密封波纹管，防止真空设备中的气体泄漏，保证了气密性。
主权项：1.一种用于真空设备的调平机构，其特征在于，所述调平机构包括至少一个间隙调节件和设置于所述间隙调节件外周的密封波纹管，所述间隙调节件包括双层螺栓和套设于所述双层螺栓外周的真空波纹管，所述双层螺栓的两端分别连接第一部件和第二部件，所述真空波纹管配合所述双层螺栓至少部分地调节所述第一部件和所述第二部件之间间隙的距离；所述间隙调节件在调节过程中连接真空环境内部和外部，所述密封波纹管用以密封因调节所述间隙调节件使得所述第一部件与所述第二部件之间移动而产生的间隙，防止所述真空设备中的反应气体泄漏。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中微半导体设备(上海)股份有限公司 用于真空设备的调平机构和等离子体处理装置
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