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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社;国立大学法人东海国立大学机构
摘要：在层叠于被蚀刻膜上的碳硬掩模的一个实施方式中，碳硬掩模中所含的亚甲基CH2和甲基CH3的浓度比满足下述式。CH2CH2+CH3≥0.5。
主权项：1.一种碳硬掩模，其为层叠于被蚀刻膜上的碳硬掩模，其中，所述碳硬掩模中所含的亚甲基CH2和甲基CH3的浓度比满足下述的式（1），CH2（CH2+CH3）≥0.5（1），所述式（1）中的CH2对应于FTIR光谱中的CH2的总计峰面积，CH3对应于FTIR光谱中的CH3的总计峰面积。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 国立大学法人东海国立大学机构 碳硬掩模、成膜装置和成膜方法
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