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非线性栅极垂直晶体管 

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申请/专利权人:安世有限公司

摘要:一种具有非线性栅极氧化物半导体边界布局的沟槽晶体管及其制造方法。沟槽晶体管包括栅极区;与栅极区相邻的氧化物区;与氧化物区相邻的半导体区。半导体区包括沿着栅极氧化物半导体边界的沟道体区。沟道体区被配置为当晶体管导通时沿着栅极氧化物半导体边界传导电流。栅极氧化物半导体边界具有非线性形状。

主权项:1.一种沟槽晶体管,包括:栅极区;氧化物区,其与所述栅极区相邻;半导体区,其与所述氧化物区相邻;其中,所述半导体区包括沿着栅极氧化物半导体边界的沟道体区,所述沟道体区被配置为当所述晶体管导通时沿着所述栅极氧化物半导体边界传导电流;以及其中,所述栅极氧化物半导体边界具有非线性形状。

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权利要求:

百度查询: 安世有限公司 非线性栅极垂直晶体管

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