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一种异山梨醇基强碱性季铵碱,及包含其的多晶硅蚀刻液、其制备方法及应用 

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申请/专利权人:浙江奥首材料科技有限公司

摘要:本发明涉及一种异山梨醇基强碱性季铵碱,及包含其的多晶硅蚀刻液、其制备方法及应用。所述多晶硅蚀刻液,组分中包含异山梨醇基强碱性季铵碱,非离子表面活性剂和超纯水。本发明蚀刻液在多叠层蚀刻过程可保证多晶硅蚀刻均一性,与此同时在最佳蚀刻条件下,蚀刻液具有良好的使用寿命与稳定性,可在3D闪存芯片领域应用,用于解决以往蚀刻过程中底部多晶硅蚀刻深度与顶部不一致,蚀刻液浓度受温度影响变大问题。

主权项:1.一种异山梨醇基强碱性季铵碱,其特征在于,所述异山梨醇基强碱性季铵碱为下式Ⅱ化合物: 式Ⅱ其中,R2选自甲基、乙基、丙基或丁基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江奥首材料科技有限公司 一种异山梨醇基强碱性季铵碱,及包含其的多晶硅蚀刻液、其制备方法及应用

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