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申请/专利权人：三星电子株式会社
摘要：本发明提供掩模检查装置和或掩模检查方法，其能够快速且准确地检查掩模上的图案的配准，以及同时检查掩模的缺陷和图案的配准。掩模检查装置可包括：台，其被配置为接收用于检查的掩模；电子束阵列，其包括：被配置为将电子束照射到掩模的多个电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号。可以通过处理信号来检测掩模的缺陷，并且可以基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准。
主权项：1.一种掩模检查装置，包括：台，其被配置为接收待检查的掩模；电子束阵列，包括多个电子束照射检测单元，其每个包括被配置为将电子束照射到掩模上的电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号，其中，通过信号的处理来检测掩模的缺陷，并且基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准；其中，位置信息是关于指示相应的电子束照射器从基板保持器的正常位置偏离的程度的每个电子束照射检测单元的第一偏移值的信息，并且其中，通过从每个电子束照射检测单元的第二偏移值中减去每个电子束照射检测单元的第一偏移值来获得配准，其中，每个电子束照射检测单元的每个第二偏移值是掩模上的图案的测量位置和图案在其设计上的位置之间的差。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 掩模检查装置和方法、以及包括该方法的制造掩模的方法
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